作者 beaver (海狸王進行針鋒相對的)
標題 [問卦] 華為公開2nm新技術專利 不使用EUV
時間 Tue Dec  2 09:21:20 2025


https://i.imgur.com/KbImLau.jpeg
[圖]

華為公開新一代不使用的EUV
的2nm技術, 該技術不使用現有的
EUV曝光機

這是真的話,那就代表中國技術
不受制於歐美日了


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※ 作者: beaver 2025-12-02 09:21:20
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[問卦] 華為公開2nm新技術專利 不使用EUV
12-02 09:21 beaver
sammy98: 好像說石刻^n就能達到1F 42.77.249.26 台灣 12/02 09:22
perlone: 祖國被封殺之下走出活路了 又要贏了2F 118.163.15.50 台灣 12/02 09:22
bv2xxxx: 都手搓5奈米了,沒啥好意外3F 123.194.1.132 台灣 12/02 09:23
sua: 老獅的手刻打磨4F 27.52.2.49 台灣 12/02 09:23
inet: https://i.mopix.cc/yxk2s0.jpg5F 49.213.225.181 台灣 12/02 09:24
[圖]
qqq87112: 手搓2奈米6F 161.30.9.154 英國 12/02 09:26
Nicehb: 良率出來再講7F 1.160.20.104 台灣 12/02 09:27
glacialfire: 好喔8F 27.247.1.230 台灣 12/02 09:30
Hina: 本來就不只一條路
但是還要時間啦 應該沒那麼快9F 1.172.149.8 台灣 12/02 09:31
inet: https://i.mopix.cc/aKHZuj.jpg11F 49.213.225.181 台灣 12/02 09:31
[圖]
Tenging: 不成熟的技術 買的人賣的人都是北七12F 114.136.197.84 台灣 12/02 09:31
inet: https://i.mopix.cc/CxQkYZ.jpg13F 49.213.225.181 台灣 12/02 09:32
[圖]
peterwu4: 那個技術好像日本有用過,但,後來放棄了,好像是什麼轉印的技術14F 61.222.220.37 台灣 12/02 09:33
peter080808: 曝光這麼多次就是成本和良率的問題16F 42.70.157.157 台灣 12/02 09:36
perlone: 台積要被追上了 青鳥唯一的驕傲快沒了17F 118.163.15.50 台灣 12/02 09:45
neilisme: 中國最厲害的就是卷 擔心成本良率幹嘛阿18F 61.216.64.210 台灣 12/02 09:46
meatmm: overlay很難維持那麼好啦 而且Lens在一直曝光下霧化程度會很難掌握 能調整的有限不行就只能直接換 但換大塊Lens成本又不低而且除非像ASML模組化 不然換>調機要很久19F 36.236.124.11 台灣 12/02 09:48
bla: 多重曝光拿來申請專利?23F 39.9.161.98 台灣 12/02 09:56
amfive: 放個xjp的照片,就知道是xjp24F 49.217.206.42 台灣 12/02 09:59
maplefff: 四重曝光, 我OK你加油25F 61.58.47.17 台灣 12/02 10:04
merkx051: 老師傅手刻26F 42.77.1.20 台灣 12/02 10:07
pansquarl: 強國就是強,快點量產出來讓全世界嚇死嘛27F 114.136.86.231 台灣 12/02 10:20
james0146: 芒刻嗎?29F 49.216.90.54 台灣 12/02 10:20

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