在美中科技角力日益升溫之際，荷蘭光刻機巨頭ASML再度捲入風暴。由於美國禁止ASML向
中國出售最先進的EUV（極紫外光）曝光機，中國半導體發展受阻，為了突破封鎖，中方
竟試圖拆解現有設備研究技術，結果導致機台故障，最後還得緊急向ASML求助維修。

美國著名地緣政治分析師Brandon Weichert撰文指出，自2018年起，美國以「科技戰」為
核心，對中國祭出晶片與高科技設備禁令，而北京則以稀土出口管制作為報復。這場你來
我往的攻防戰，不僅重塑了全球供應鏈，也使中國在人工智慧與先進晶片競賽中陷入瓶頸
。

由於無法取得美國及其盟友掌握的高階晶片與製造設備，中國被迫尋求替代方案，嘗試自
行研發甚至仿製相關技術。ASML生產的光刻機被視為全球晶片製造的關鍵設備，但在美國
壓力下，中國目前僅能購得較舊的深紫外（DUV）光刻機，無法取得最先進的EUV機型。

Weichert透露，近期中國工程師為了掌握ASML設備的核心技術，嘗試拆解並逆向研究一台
DUV光刻機，意圖為未來自製版本鋪路。然而，在拆解與重組過程中，該設備遭到損壞，
中方只得向ASML請求派員協助維修。ASML技術人員抵達後發現，問題並非機台自然故障，
而是因中方嘗試「解構」設備導致。目前尚不清楚ASML是否完成維修，而ASML是否會繼續
履行維修合約也存在變數。

Weichert指出，這一事件突顯美國晶片禁令對中國高科技發展造成的實質衝擊，也揭示北
京仍有相當長的技術差距要追趕。光刻機的研究工程並非普通工業仿造可比，其內部精密
程度極高，稍有差錯便可能導致設備報廢。

然而，他同時警告，儘管面臨封鎖，中國仍將持續加大投入，試圖打造自主晶片生態。短
期內北京難以擺脫對西方技術的依賴，但只要美中對立持續、稀土管制與晶片禁令互相制
衡，這場科技對決就不會停止。