作者 esolve (nobbb)
標題 Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎?
時間 Fri Sep 15 10:14:47 2023


中國不是做光刻機
中國是做光刻工廠
做光刻機確實很難
因為荷蘭asml做光刻機有積累有專利,是多個國家高精尖技術的匯聚
但是荷蘭做的光刻機是為了賣
所以要做的小,做成產品
但是中國做光刻工廠不是為了賣,而是為了造芯片
所以不需要做小,不需要那麼多高精尖配件
這就是另闢蹊徑
比如說
asml光刻需要的光源要做到精確的3nm
那確實很難
但是中國光刻工廠就不做精確光源
而是做精確的篩子
3nm 7nm 14nm的篩子
用同步輻射光源打出各種光
刻3nm芯片的部分放上3nm篩子
刻7nm芯片的部分放7nm篩子
這樣一次發射,同時刻不同芯片


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※ 作者: esolve 2023-09-15 10:14:47
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※ 同主題文章:
Re: [問卦] 對面的光刻機技術真的要突破了嗎?
09-15 10:14 esolve
james732: 以後台積電買不到中國製的光刻機被超車1F 60.251.152.243 台灣 09/15 10:15
pnsboy: 手機做大一點就好 還可吹大螢幕2F 42.73.197.202 台灣 09/15 10:17
anti87: 以後就沒ASML的事了3F 101.136.157.20 台灣 09/15 10:18
cat5672: 沒事兒 通通都是謠言 沒事兒4F 49.216.105.241 台灣 09/15 10:19
highperpopo: 光哥吉拉5F 223.138.150.156 台灣 09/15 10:19
newyorker54: 真的很聰明,可以解決問題不一定要做出光源,但是基礎工業能力不足還是存6F 220.138.154.77 台灣 09/15 10:19
roseritter: EUV波長大於10nm阿 大哥 你怎麼精確加工出3nm 7nm的光柵9F 223.139.181.54 台灣 09/15 10:20
potionx: https://youtu.be/b7hMcO0WKkc
光學的東西比你想的要麻煩多了11F 1.164.82.65 台灣 09/15 10:22
我也是舉例類比簡化描述,便於理解,現實肯定不是我舉例說的這麼簡化,複雜的東西大家
看不懂也不會看。複雜肯定是複雜,否則中國早就做出來了,光刻工廠肯定也是有很多技術
難題要攻關,但是總歸會比做光刻機容易多了
cat5672: 都在亂講 做不出來滴 (づ′・ω・)づ13F 49.216.105.241 台灣 09/15 10:22
EfiwymsiAros: 好 再等十年14F 111.81.246.36 台灣 09/15 10:23
roseritter: 10nm以下的X光還會穿透 遮蔽層15F 223.139.181.54 台灣 09/15 10:23
potionx: duv打出來的波長是193nm16F 1.164.82.65 台灣 09/15 10:23
atpx: 所以感覺就是還做不出來的意思吧17F 114.136.131.185 台灣 09/15 10:24
dj720c: 供瞎洨18F 219.86.8.148 台灣 09/15 10:27
wylscott: 中國這麼會吹 來看明年會不會出5nm啊19F 203.75.79.18 台灣 09/15 10:29
Linyingsheng: 別廢話 先做原型出來看看20F 42.73.114.5 台灣 09/15 10:30
hihimen: 正解,中國自足就好了,21F 150.117.222.95 台灣 09/15 10:33
做出來後,光刻工廠不出口,但是芯片和手機都可以出口啊
db: 顆顆顆顆22F 111.82.121.223 台灣 09/15 10:37
※ 編輯: esolve (103.172.41.146 香港), 09/15/2023 10:42:08
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