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作者 palindromes ()
標題 [討論] 為何華為又有辦法出五奈米晶片啊？
時間 Thu May  8 22:45:40 2025


欸欸欸

美國到底有沒有在制裁

華為旗下的海思

又出一個五奈米晶片X90

一直出一直爽欸

這次又是誰代工啊～


媽的

挖一個ASML光源技術負責人來搞曝光機

現在又一直出先進製程工藝晶片

華為是不是什麼都要啊？


川普

你中國搞定了沒啦？

可憐啊～



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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 116.241.205.31 (臺灣)
※ 作者: palindromes 2025-05-08 22:45:40
※ 文章代碼(AID): #1e7CEMIc (HatePolitics)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/HatePolitics/M.1746715542.A.4A6.html
※ 編輯: palindromes (116.241.205.31 臺灣), 05/08/2025 22:46:36
→ Tigerman001: 如果不計較良率的話 是可以的，用7納米重複曝光1F 112.104.107.168 台灣 05/08 22:48
推 tony890415: SAQP不用重複曝 不過這版應該懂得不多3F 27.247.99.71 台灣 05/08 22:49
推 centra: VIA搞定有機會4F 114.137.37.173 台灣 05/08 22:52
→ palindromes: SADP+LE+SADP？5F 116.241.205.31 台灣 05/08 22:53
推 zonppp: 因為小草都是工程師啊6F 218.161.25.71 台灣 05/08 22:54
噓 giorno78: 77 49 啊 重複曝光兩次就有5奈米了7F 36.228.212.176 台灣 05/08 22:54
推 jess730612: 其實都不脫掩模複雜化的變種8F 123.241.240.202 台灣 05/08 22:55
推 a2550099: SAQP也算多重曝光啦 解析度比EUV高但成本就…9F 42.72.233.102 台灣 05/08 22:57
→ tony890415: 曝光一次 放Spacer 再拿Spacer做spacer 只要曝光一次 就可以縮1/4
SAQP其實只要曝光一次 很多不懂的以為要重複曝11F 49.216.49.30 台灣 05/08 22:58
→ palindromes: ASML最新的EUV比上一代步驟少30%15F 116.241.205.31 台灣 05/08 22:59
→ tony890415: 只是要多疊好幾層Mandrel(HM)16F 49.216.49.30 台灣 05/08 22:59
→ palindromes: 台積現在也不急著用17F 116.241.205.31 台灣 05/08 22:59
推 a2550099: 原來如此！是我搞錯了18F 42.72.233.102 台灣 05/08 23:01
→ tony890415: 除了第一次的圖案 其他都是自對準的19F 49.216.49.30 台灣 05/08 23:02
→ palindromes: 光罩成本跟時程也多啊
良率要靠工程師爆肝吧20F 116.241.205.31 台灣 05/08 23:03
推 win8719: saqp牙膏就失敗了，從去年說到今年，還有這版的人如何阿22F 114.44.0.122 台灣 05/08 23:04

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