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作者 標題 [新聞] 台積電、ASML聯手推12吋High NA EUV光罩
時間 Wed Sep 9 10:16:01 2026
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台積電、ASML聯手推12吋High NA EUV光罩!2030年擬導入先進製程、2031年前建試產線
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2026/09/08
14:26
記者署名:
財訊新聞中心
原文內容:
台積電與ASML宣布發起產業合作,共同推動半導體產業轉移升級至更大尺寸的極紫外光(
EUV)微影光罩,將High NA EUV自現行6吋光罩轉移至12吋光罩,目標於2031年之前建立
12吋光罩試產線(pilot line),並於2033年之前實現微影系統全面就緒,以支援先進製
程量產。
EUV)微影光罩,將High NA EUV自現行6吋光罩轉移至12吋光罩,目標於2031年之前建立
12吋光罩試產線(pilot line),並於2033年之前實現微影系統全面就緒,以支援先進製
程量產。
ASML與台積電9月7日於加州蒙特雷舉辦的BACUS國際光學工程學會(SPIE)先進微影技術
研討會前宣布發起這項產業合作,共同推動轉移升級至12吋光罩,以將高數值孔徑極紫外
光(High NA EUV)微影技術的價值發揮到極致。
研討會前宣布發起這項產業合作,共同推動轉移升級至12吋光罩,以將高數值孔徑極紫外
光(High NA EUV)微影技術的價值發揮到極致。
High NA EUV將自現行的6吋光罩,轉移至更大的12吋光罩,預期將進一步提升晶圓廠的生
產力、降低晶片製造成本,並消除需要兩張6吋光罩在High NA EUV曝光時進行拼接的限制
,使整個半導體產業受惠。
產力、降低晶片製造成本,並消除需要兩張6吋光罩在High NA EUV曝光時進行拼接的限制
,使整個半導體產業受惠。
雙方指出,此次轉移能讓先進晶片製造服務提供者充分利用High NA EUV的優勢,更提升
未來世代先進晶片的成本效益。
ASML總裁暨執行長Christophe Fouquet表示:「我們預期,隨著元件微縮藍圖的推進,
High NA EUV的採用將逐步提升。初期透過沿用現行的6吋光罩,而後導入12吋光罩以進一
步提升設備生產力,讓產業能夠滿足市場對更小、更快、更節能晶片的需求。我們很高興
這項合作在初期便獲得半導體製造廠商、光罩廠商、以及合作夥伴的大力支持。」
步提升設備生產力,讓產業能夠滿足市場對更小、更快、更節能晶片的需求。我們很高興
這項合作在初期便獲得半導體製造廠商、光罩廠商、以及合作夥伴的大力支持。」
台積電董事長暨總裁魏哲家表示:「台積電深信,唯有產業攜手解決複雜問題,才能開創
單一企業無法獨力實現的無限可能。藉由匯聚產業價值鏈的專業力量,我們期許透過持續
創新來降低門檻,讓先進解決方案得以大規模普及,進而持續傳遞尖端技術的價值。」
單一企業無法獨力實現的無限可能。藉由匯聚產業價值鏈的專業力量,我們期許透過持續
創新來降低門檻,讓先進解決方案得以大規模普及,進而持續傳遞尖端技術的價值。」
台積電有意自2030年起,在先進製程量產中導入ASML的High NA技術。隨著製程技術持續
推進,特別是在AI應用帶動電晶體架構日益複雜的趨勢下,台積電預期需要使用High NA
EUV曝光的光罩層數將隨之增加。
推進,特別是在AI應用帶動電晶體架構日益複雜的趨勢下,台積電預期需要使用High NA
EUV曝光的光罩層數將隨之增加。
依照此次合作時程,ASML與台積電計畫於2031年之前建立12吋光罩試產線,並為2033年12
吋High NA微影系統導入先進製程量產奠定基礎。
此外,眾多關鍵生態系統夥伴與供應商均出席此次活動,High NA EUV採用廠商及其他主
要供應商也表達參與意願,突顯產業對此的廣泛支持。
心得/評論:
在常規 EUV 設備中,晶片線路能以 1:1 的光罩視場Field Size一次印在矽晶圓上。
但到了 High NA EUV(用於 2nm、A16 以下極先進製程),由於鏡頭放大倍率改變,光罩
視場被強制縮小了一半Half-Field
舊作法(6 吋光罩):設計一個大晶片時,必須把電路拆成兩半,用兩張 6 吋光罩分別
曝光後再拼接(Stitching)起來。這會導致曝光時間翻倍、生產效率(WPH)砍半、光罩
成本爆增,且拼接處容易出現瑕疵。
曝光後再拼接(Stitching)起來。這會導致曝光時間翻倍、生產效率(WPH)砍半、光罩
成本爆增,且拼接處容易出現瑕疵。
新方案12 吋光罩:將光罩尺寸加大一倍,讓 High NA EUV 能夠一次完成全視場Full-
Field曝光,免去拼接光罩的麻煩,直接解決了產能與成本兩大痛點。
因此光罩加大至12吋後從光罩基板、檢測設備、光阻劑塗佈機到機器人搬運系統全部都
要重新設計,將引發一波高階半導體設備與檢測材料的升級潮。
雖然時間尚遠台積電對於規劃一直在前。CC魏今年股東會說過「下面幾年都很好,你如果
預計買股票,請繼續」是有所本
※必須填寫滿30正體中文字,心得過短或濫竽充數將以板規 1-2-3 處分
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 175.181.104.58 (臺灣)
※ 作者: suntw 2026-09-09 10:16:01
※ 文章代碼(AID): #1geC5a34 (Stock)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Stock/M.1788920164.A.0C4.html
推 : 感覺台積電真的好猛=.=1F 09/09 10:16
→ : 在這樣跑下去沒有人追得到了吧
※ 編輯: suntw (175.181.104.58 臺灣), 09/09/2026 10:18:32→ : 在這樣跑下去沒有人追得到了吧
推 : 台積RD是真的猛3F 09/09 10:18
推 : 家登一字鎖4F 09/09 10:23
→ : 原來不是不買High NA EUV 只是還不夠好才不買5F 09/09 10:23
推 : 光罩噴6F 09/09 10:30
推 : 2030後依然一人武林7F 09/09 10:31
推 : 我退休就靠你了 台積電加油8F 09/09 10:33
推 : 那一奈米要2033年囉~9F 09/09 10:36
推 : 要拚單位生產價格了?10F 09/09 10:39
推 : 沒買過2330 要考慮買了嗎..11F 09/09 10:41
推 : 股東會有說 有買 只是因成本考量 還沒用而已12F 09/09 10:42
→ : 聯手ASML 其他競爭對手哭爛
→ : 聯手ASML 其他競爭對手哭爛
推 : 玻璃不要了14F 09/09 10:44
推 : 這樣聯手 對手會連車尾燈都看不到15F 09/09 10:46
推 : 跟光阻塗布有啥關係啊16F 09/09 10:52
噓 : 說個笑話 203317F 09/09 10:56
→ : 光罩製造本身就需要光阻塗佈18F 09/09 10:57
→ : 印象好像是E-beam寫的19F 09/09 11:02
推 : 外國人越來越多人買TSM20F 09/09 11:10
推 : 12吋光罩耶21F 09/09 11:11
→ : 18吋不搞, 現在換搞12吋光罩22F 09/09 11:23
→ : 噴23F 09/09 11:24
→ : 光罩檢測修復商應該頭痛死了24F 09/09 11:26
推 : 這會拉高光罩製造技術的門檻,跟得上的廠商就吃肉25F 09/09 11:39
→ : 喝湯
→ : 喝湯
推 : 另外兩家 要玩6吋?27F 09/09 11:39
推 : 猜測應該是關鍵層改12吋,其他層應該還是維持6吋28F 09/09 11:58
推 : 競爭者很難受 不跟直接被淘汰 跟了又註定錢坑當老二29F 09/09 11:58
推 : 信了cc魏、等回檔就加碼30F 09/09 12:21
推 : 相信魏哲家,年底31F 09/09 12:26
推 : 台積電階段性目標都蠻明確的32F 09/09 12:29
推 : 當機要手拿光罩會抖死,6吋就不好拿了還12吋33F 09/09 12:40
→ : 相信cc魏 價格無所謂34F 09/09 13:12
推 : 明天一根35F 09/09 13:20
推 : 畢竟現在最頂尖最新鮮的人才都在哪裡了36F 09/09 13:22
→ : 好屌 已經看到2033了...37F 09/09 13:23
推 : gg就是靠技術壁壘穩坐龍頭啊!後面追那麼快38F 09/09 13:35
推 : 光罩漲停 可是沒他呀 笑死39F 09/09 13:37
推 : 神神神40F 09/09 13:46
推 : 不會漲,沒用吧41F 09/09 13:53
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